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來自: leafcho > 《半導(dǎo)體-電子》
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SMIC員工漫談半導(dǎo)體代工企業(yè)內(nèi)幕
而所謂干蝕刻,則是利用干蝕刻機臺產(chǎn)生電漿,將所欲蝕刻之薄膜反映產(chǎn)生氣體由PUMP抽走,達到圖案定義之目的。137 PLASMA ETCHING 電將蝕刻 1.定義:在干蝕刻技術(shù)中,一班多采用電漿蝕刻與活性離子蝕刻...
0.18 LOGIC FLOW一百問
10:在STI CMP后OXIDE的表面要比NITRIDE 的低?為什么要去除PAD OX后才長SAC OX ,而不直接用PAD OX?A:因為經(jīng)過上面一系列的PROCESS,SILICON的SURFACE會有很多DAMAGE,PAD OX 損傷也很嚴重,因此要...
5、干貨!掌握這兩個電壓(Vdc&Vpp),就理解了DRY ETCH微觀原理
掌握這兩個電壓(Vdc&Vpp),就理解了DRY ETCH微觀原理。前面已經(jīng)向大家介紹DRY ETCH的宏觀原理,這一節(jié)通過介紹兩個電壓參數(shù)(Vdc&...
TFT制程分析之Dry Etch
TFT制程分析之Dry Etch.說起Dry Etch(以下簡稱DE又或者是干刻)這個制程,我們先來看看刻蝕是啥玩意:Plasma,是一種電離氣體(自由電...
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S71200 -1500指令說明和舉例CMP :大于
CMP>:大于(S7-1200,S7-1500)有關(guān)LAD的基本信息存儲區(qū)(S7-1200)-3-
蝕刻(Etch)工藝流程講解
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華海清科科普:CMP設(shè)備難在哪里?作為國內(nèi)領(lǐng)先的供應(yīng)商,華海清科的核心研發(fā)團隊起源于清華大學(xué)摩擦學(xué)國家重點實驗室,當(dāng)時是承擔(dān) 02 重...
微信掃碼,在手機上查看選中內(nèi)容